PECVD系統(tǒng)：管式爐+真空系統(tǒng)+供氣系統(tǒng)
洛陽西格馬高溫電爐可生產PECVD系統(tǒng)?、管式氣相沉積爐、井式氣相沉積爐。PECVD系統(tǒng)由管式爐，石英真空室、真空系統(tǒng)、供氣系統(tǒng)、射頻電源系統(tǒng)等組成。
?
PECVD系統(tǒng)主要應用于金屬薄膜，陶瓷薄膜等，復合薄膜，石墨烯等生長。
?
PECVD系統(tǒng)增加功能容易，可擴展等離子清洗刻蝕等功能，PECVD系統(tǒng)薄膜沉積速率高、均勻性好、一致性和穩(wěn)定性高等點。
?
PECVD系統(tǒng)主要特點：
通過射頻電源把石英真空室內的氣體變?yōu)殡x子態(tài)。PECVD比普通CVD進行化學氣相沉積所需的溫度更低。
可以通過射頻電源的頻率來控制所沉積薄膜的重力大小。
PECVD比普通CVD進行化學氣相沉積速率高、均勻性好、一致性和穩(wěn)定性高。
廣泛應用于：各種薄膜的生長，如：SiOx,SiNx,SiOxNy和無定型硅(a-Si:H)等。
?
PECVD系統(tǒng)技術參數(shù)：
爐膛尺寸：60/80/100/120*400mm（直徑*加熱區(qū)）機器電源：AC220V，50/60Hz；額定功率5kw
爐體結構：雙層殼體風冷結構
爐膛材質：真空吸附成型的質高純氧化鋁纖維固化爐膛，保溫性能好
爐膛設計：爐體采用臺階式拼裝構造，爐門和爐門框采用整體設計，有效的保證了爐膛的不塌頂，爐門和爐門框的緊密配合使熱能不易散失和增長了爐門部分的使用壽命。
溫控系統(tǒng)：溫度控制系統(tǒng)采用人工智能調節(jié)技術，具有PID調節(jié)、自整定功能，并可編制30段升降溫程序；控溫精度±1℃
真空度??：10-1pa
顯示模式：宇電數(shù)顯
加熱元件：電阻絲
測溫元件：K型熱電偶，測量范圍[0/1300°C]
使用溫度：額定溫度1200℃，連續(xù)工作溫度≤1100℃
升溫速度：推薦≤10℃/min，設計快升溫速度15℃/min
外形尺寸：以設計為準
產品認證：本產品通過了歐盟CE認證和ISO90012008質量管理體系認證
執(zhí)行標準：GB/T：10066.1/2004、GB/T10067.4/2005
標準配置：主機1臺，真空機組一套，射頻電源1套，供氣系統(tǒng)1套，坩堝鉗1把，高溫手套一副、說明書、合格證、保修卡各1份
?
PECVD系統(tǒng)射頻電源技術參數(shù)
| RF射頻電源主要技術參數(shù) | 功率輸出范圍 | ?0-500W |
| 額定反射功率 | 200W | |
|
工作頻率 ? |
射頻13.56MHZ±0.005% | |
| 功率穩(wěn)定度 | +/-0.1% | |
| 諧波分量 | ≤-50dbc | |
| 射頻區(qū)域寬度 | 0-600mm可調 | |
| 匹配方式 | 自動 | |
| 冷卻方式 | 風冷 | |
| 噪聲 | <50dB | |
| 射頻接口 | 50Ω??N-type | |
| 輸入電源 | 208-240V?50/60HZ |
PECVD系統(tǒng)供氣系統(tǒng)技術參數(shù)
| ? | 質量流量計 |
量程和氣體 ? ? |
5、10、20、30、50、100、200、300、500SCCM、1、2、3、5、10SLM? （你可以任意選擇以上量程和所通氣體的類型） |
| 耐壓 | 3MP | ||
| 流量控制精度 | ±1.0%F.S | ||
| 額定工作（使用）壓力 |
0.3MPa ? |
||
| 線性 | ±0.5%F.S. | ||
| 重復精度 | ±0.2%F.S | ||
|
路數(shù) ? |
?1、2、3、4、5、6、7、8路（可任意選擇幾路） | ||
| 接頭類型 | 雙卡套不銹鋼接頭 | ||
| 系統(tǒng)工作壓力范圍 | 0.1~0.5：MPa | ||
| 工作溫度 | 5-45℃ | ||
| 壓力真空表 | -0.1~0.15MPa???0.01MPa/格 | ||
| 靜態(tài)混氣室 | Dia50X400MM | ||
| 接口 |
Dia6?/1/4” ? |
||
相關關鍵字：PECVD系統(tǒng)
??售前客服