高純度單晶石英坩堝
石英坩堝具有高純度、耐溫性強(qiáng)、尺寸大精度高、保溫性好、節(jié)約能源、質(zhì)量穩(wěn)定等點(diǎn)，應(yīng)用越來(lái)越廣泛。石英坩堝分為方形、圓形兩大類：圓形的石英坩堝是用在單晶爐里拉制單晶硅的；方形的石英坩堝是用在多晶硅鑄錠中的。
坩堝名稱：石英坩堝
技術(shù)參數(shù)：高純度石英坩堝
使用溫度可高達(dá)1200℃
1、石英坩堝可在1450度以下使用，分透明和不透明兩種。用電弧法制的半透明石英坩堝是拉制大直徑單晶硅，發(fā)展大規(guī)模集成電路必不可少的基礎(chǔ)材料。當(dāng)今，世界半導(dǎo)體工業(yè)發(fā)達(dá)已用此坩堝取代了小的透明石英坩堝。他具有高純度、耐溫性強(qiáng)、尺寸大精度高、保溫性好、節(jié)約能源、質(zhì)量穩(wěn)定等點(diǎn)。
2、不能和HF接觸，高溫時(shí)，極易和苛性堿及堿金屬的碳酸鹽作用。
3、石英坩堝適于用K2S2O7，KHSO4作熔劑熔融樣品和用Na2S207(先在212度烘干)作熔劑處理樣品。
4、石英質(zhì)脆，易破，使用時(shí)要注意。
5、除HF外， 石英玻璃坩堝 石英玻璃坩堝 普通稀無(wú)機(jī)酸可用作清洗液。
國(guó)內(nèi)常用拉制單晶硅用石英坩堝18英寸和20英寸22英寸也有廠家使用22及以上的坩堝。目前國(guó)內(nèi)坩堝生產(chǎn)大廠家生產(chǎn)的坩堝技術(shù)都比較成熟。其生產(chǎn)使用原料石英砂由和挪威高純石英砂兩種。也有小廠使用國(guó)產(chǎn)料其原料生產(chǎn)的石英坩堝對(duì)拉制單晶硅時(shí)其穩(wěn)定性都有一定影響。 目前坩堝生產(chǎn)涂層技術(shù)已被大多數(shù)廠家使用就是在普通石英砂溶制的坩堝表面涂上一層二氧化鋇溶液使其形成致密層，其致密層能阻止單晶硅高溫拉制過(guò)程中硅與石英坩堝反應(yīng)提高成晶率。
坩堝名稱：石英坩堝
技術(shù)參數(shù)：高純度石英坩堝
使用溫度可高達(dá)1200℃
常規(guī)尺寸：
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圖片 |
名稱 |
尺寸 |
適用 |
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石英坩堝 |
100*17*10mm |
用于1200℃以下的管式爐 |
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石英坩堝 |
100*40*20mm |
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石英坩堝 |
100*60*26mm |
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石英坩堝 |
100*70*30mm |
石英坩堝的使用及維護(hù)
石英坩堝主要化學(xué)成分是二氧化硅，除氫氟酸外不與其它酸作用，易與苛性堿及堿金屬碳酸鹽作用。
石英坩堝對(duì)熱的穩(wěn)定性很好，可直接放在火焰上加熱
石英坩堝和玻璃器皿一樣，容易破碎，使用時(shí)要特別小心
用石英坩堝可以用硫酸氫鉀（鈉），硫代硫酸鈉（在212攝氏度烘干）等作為熔劑，熔融溫度不許超過(guò)800攝氏度。
1、石英坩堝可在1450度以下使用，分透明和不透明兩種。用電弧法制的半透明石英坩堝是拉制大直徑單晶硅，發(fā)展大規(guī)模集成電路必不可少的基礎(chǔ)材料。當(dāng)今，世界半導(dǎo)體工業(yè)發(fā)達(dá)已用此坩堝取代了小的透明石英坩堝。他具有高純度、耐溫性強(qiáng)、尺寸大精度高、保溫性好、節(jié)約能源、質(zhì)量穩(wěn)定等點(diǎn)。
2、不能和HF接觸，高溫時(shí)，極易和苛性堿及堿金屬的碳酸鹽作用。
3、石英坩堝適于用K2S2O7，KHSO4作熔劑熔融樣品和用Na2S207(先在212度烘干)作熔劑處理樣品。
4、石英質(zhì)脆，易破，使用時(shí)要注意。
5、除HF外， 石英玻璃坩堝 石英玻璃坩堝 普通稀無(wú)機(jī)酸可用作清洗液。
國(guó)內(nèi)常用拉制單晶硅用石英坩堝18英寸和20英寸22英寸也有廠家使用22及以上的坩堝。目前國(guó)內(nèi)坩堝生產(chǎn)大廠家生產(chǎn)的坩堝技術(shù)都比較成熟。其生產(chǎn)使用原料石英砂由和挪威高純石英砂兩種。也有小廠使用國(guó)產(chǎn)料其原料生產(chǎn)的石英坩堝對(duì)拉制單晶硅時(shí)其穩(wěn)定性都有一定影響。 目前坩堝生產(chǎn)涂層技術(shù)已被大多數(shù)廠家使用就是在普通石英砂溶制的坩堝表面涂上一層二氧化鋇溶液使其形成致密層，其致密層能阻止單晶硅高溫拉制過(guò)程中硅與石英坩堝反應(yīng)提高成晶率。
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